在高科技制造領域，基板表面的清潔度與質量直接影響到后續工藝的穩定性和最終產品的性能。等離子清洗機作為一種先進的表面處理技術，以其高效、環保、無損傷的特點，在清除基板表面污染物、改善表面能、增強涂層附著力等方面展現出巨大潛力。然而，為了充分發揮等離子清洗機的優勢，確保處理效果達到最佳狀態，基板在送入等離子清洗機之前，往往需要經過一系列精心的預處理步驟。
1. 表面清潔
目的：去除基板表面的大顆粒雜質、灰塵、油污等明顯污染物，為等離子處理創造一個干凈、均勻的起始條件。
方法：
物理清潔：采用無塵布、吸塵器等工具進行初步擦拭和吸塵，去除大顆粒雜質和表面浮塵。
化學清洗：對于難以通過物理手段去除的油污、指紋等，可使用專用的清洗劑進行浸泡、擦拭或噴淋清洗。清洗劑的選擇需考慮與基板材料的兼容性，避免腐蝕或殘留。
2. 干燥處理
目的：確保基板表面無水分殘留，因為水分會干擾等離子體的產生和分布，降低清洗效果。
方法：
自然干燥：將清洗后的基板置于無塵室或干燥箱內，通過自然對流或輻射散熱的方式去除水分。此方法適用于對時間要求不高的場景。
強制干燥：采用熱風槍、烘箱等加熱設備，加快基板表面的干燥速度。需控制加熱溫度和時間，避免基板變形或熱損傷。
3. 去除靜電
目的：靜電可能吸引空氣中的微小顆粒，重新污染基板表面；同時，靜電還可能影響等離子體的穩定性。
方法：
靜電消除器：使用靜電消除器對基板進行掃描，中和表面電荷，消除靜電。
接地處理：確保基板處理過程中的設備、工具等均良好接地，減少靜電的產生和積累。
4. 視覺檢查
目的：在送入等離子清洗機之前，通過目視或顯微鏡檢查基板表面，確認是否已完全去除污染物，無劃痕、裂紋等缺陷。
方法：
放大鏡/顯微鏡觀察：利用放大鏡或顯微鏡觀察基板表面的細微結構，檢查是否有殘留污染物或損傷。
光照檢查：在特定光照條件下（如斜射光），觀察基板表面是否平整、反光均勻，以發現不易察覺的缺陷。
5. 儲存與運輸
目的：確保基板在預處理后至等離子清洗前的過程中保持清潔狀態，避免二次污染。
方法：
清潔包裝：使用無塵袋、防靜電膜等清潔包裝材料對基板進行封裝，隔絕外部環境中的塵埃和靜電。
平穩運輸：在運輸過程中，保持基板平穩放置，避免劇烈震動和碰撞，以防劃傷或產生新的污染物。
綜上所述，等離子清洗機處理基板前的預處理步驟是確保處理效果的關鍵環節。通過精心設計的預處理流程，可以很大程度地去除基板表面的污染物，為等離子處理創造一個理想的起始條件，從而提高產品的質量和穩定性。
