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奧坤鑫:詳述等離子表面清洗設(shè)備的應(yīng)用
2016.07.28
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  【奧坤鑫 OKSUN】提到等離子表面清洗設(shè)備這個(gè)詞語,大家肯定覺得非常陌生,雖然也聽到過這個(gè)詞,但是對(duì)于它的了解卻少之又少。不過沒關(guān)系,在今天的文章中,我們就來跟大家講解一下有關(guān)等離子表面清洗設(shè)備的相關(guān)知識(shí),大家不妨來看看吧。
 
  等離子表面清洗設(shè)備的應(yīng)用:
 
  1、清洗光學(xué)器件、電子元件、 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片,移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石等;【真空等離子設(shè)備
 
  2、牙科領(lǐng)域:對(duì)硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤性和相容性;
 
  3、醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學(xué)上移植物的表面預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤性、粘附性和相容性,醫(yī)療器械的消 毒和**菌;
 
  4、改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力;
 
  5、【等離子表面清洗】去除金屬材料表面的氧化物;
 
  6、使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化,增強(qiáng)其表面粘附性、浸潤性、相容性;
 
  7、高分子材料表面修飾。
 
  等離子表面清洗設(shè)備的原理是在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子,然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達(dá)到表面清潔活化的目的。希望上述介紹能夠幫助大家更好的了解等離子表面清洗設(shè)備。【卷對(duì)卷等離子處理設(shè)備

 
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