【等離子Plasma】大氣低溫等離子體拋光就是通過在常溫常壓下的等離子體化學(xué)反應(yīng)來實現(xiàn)工件材料高效去除的一種新的超精密超光滑加工方法。 大氣低溫等離子體采用氣體輝光放電的方式產(chǎn)生。
工作氣體通常包含等離子體氣體和反應(yīng)氣體。其中，等離子體氣體是容易被大量激發(fā)的氣體，它通常不參與化學(xué)反應(yīng)，主要負責(zé)維持有效的放電狀態(tài)和形成大面積高密度的等離子體放電，為反應(yīng)氣體的進一步激發(fā)提供活性氛圍。
【真空等離子設(shè)備】而反應(yīng)氣體則是實現(xiàn)指定的化學(xué)反應(yīng)的活性粒子的主要載體，負責(zé)為材料去處過程提供活性反應(yīng)原子，其與等離子體氣體充分混合后以恒定的比例通入等離子體發(fā)生系統(tǒng)中，在等離子體氛圍下被激發(fā)，生成活性反應(yīng)原子，活性反應(yīng)原子與工件表面原子接觸后發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，實現(xiàn)原子級的材料去除，反應(yīng)產(chǎn)物通常為強揮發(fā)性的氣體，因此不會對表面造成新的污染。
因此大氣低溫等離子體拋光方法從本質(zhì)上講是屬于化學(xué)性的材料去除技術(shù)。它不但避免了傳統(tǒng)的機械加工方法所固有的接觸施力的過程，也不存在常用的真空等離子體輔助性加工方法的離子濺射效應(yīng)，還解決了常規(guī)的化學(xué)拋光存在的表面污染、難以定量控制等問題，是一種全新的、極具發(fā)展前景的超精密無損拋光技術(shù)。【卷對卷等離子處理設(shè)備】
