為了保證LED顯示屏的像素的最佳排列和達(dá)到最大的發(fā)光效果，需要對(duì)LED噴墨列印做一個(gè)特殊的等離子表面活化處理，直接使用奧坤鑫自主研發(fā)生產(chǎn)的等離子表面清洗處理機(jī)對(duì)產(chǎn)品的表面進(jìn)行處理就可以達(dá)到這樣的效果。它的作用主要是改變產(chǎn)品本身的親水性或疏水。直接用等離子進(jìn)行表面處理是安全的，對(duì)產(chǎn)品本身沒有任何實(shí)質(zhì)影響的。使用有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）的電致發(fā)光器件正在迅速的成為主流顯示技術(shù)。它們的基本結(jié)構(gòu)由兩個(gè)電極和夾在其間的一層或多層發(fā)光材料組成。其中的一個(gè)電極必須是透明的(ITO)，且經(jīng)常做在玻璃基體上。對(duì)于高分子OLED器件(PLED)，使用有機(jī)光學(xué)成像材料在ITO上制作儲(chǔ)存槽。然后通過噴墨列印把PLED材料從溶液中分配到儲(chǔ)存槽里。ITO電極的表面性能將決定PLED器件的電學(xué)和光學(xué)性能。表面的潔凈根本上是為了使空穴傳輸層（例如PEDOT）或發(fā)光聚合物（LEP）和ITO緊密地接觸。ITO表面必須有很好的浸潤性（親水性）來確保完全的像素填充并均勻的覆蓋。另外，在沉積LEP之前提高ITO的功函數(shù)可以極大地提高電荷向有機(jī)層內(nèi)的傳送。需要控制像素儲(chǔ)存槽的邊緣結(jié)構(gòu)的表面以避免噴墨分配后LEP溢出到鄰近的像素中。在這種情況下儲(chǔ)存槽邊緣需要不浸潤，或疏水。這個(gè)任務(wù)的難點(diǎn)在于ITO要變得親水而儲(chǔ)存槽邊緣則要變得疏水。使用等離子體的表面工程學(xué)可以很容易的克服這些制造難題。在這方面奧坤鑫的等離子設(shè)備應(yīng)用技術(shù)已經(jīng)達(dá)到了一個(gè)很領(lǐng)先的水平程度。目前在國內(nèi)來說還是屬于比較精湛的，充分的展現(xiàn)了其在等離子設(shè)備行業(yè)的技術(shù)領(lǐng)先的實(shí)力。
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